Лента новостей
0

Обнаружена новая угроза озоновому слою

NASA, фото - Новости Zakon.kz от 18.05.2018 15:59 NASA
Возможный источник вредных веществ располагается в Восточной Азии.

Исследователи из Национального управления океанических и атмосферных исследований США зарегистрировали повышение концентрации разрушающих озоновый слой хлорфторуглеродов (ХФУ). Источник вредных веществ пока остается неизвестным, передает lenta.ru.

В 1989 году вступил в силу Монреальский протокол, разработанный для защиты озонового слоя с помощью снятия с производства разрушающих его соединений, в том числе ХФУ. Последние под действием ультрафиолетового излучения разлагаются с образованием атомарного хлора, вступающего в реакцию с озоном. Хлорфторуглероды, в частности ХФУ-11, использовались в хладагентах и аэрозолях, а в настоящее время их производство почти полностью прекращено.

С 1993 году концентрация ХФУ-11 в атмосфере снизилась на 15 процентов, однако с 2014 по 2016 год его выбросы увеличились на 25 процентов по сравнению со средним показателем для 2002-2012 годов. Это замедляет снижение содержания хлорфторуглеродов почти в два раза.

Сначала ученые предположили, что выбросы связаны с разрушением старых зданий, содержащих хладагенты с ХФУ-11. Результаты моделирования погодных условий показали, что вклад этого источника должен быть незначительным. По мнению исследователей, это значит, что ХФУ-11 снова где-то производится, его концентрация высока в Северном полушарии. Возможный источник располагается в Восточной Азии и может находиться в Китае, Монголии, Северной или Южной Корее.

Следите за новостями zakon.kz в:
Поделиться
Если вы видите данное сообщение, значит возникли проблемы с работой системы комментариев. Возможно у вас отключен JavaScript
Будьте в тренде!
Включите уведомления и получайте главные новости первым!

Уведомления можно отключить в браузере в любой момент

Подпишитесь на наши уведомления!
Нажмите на иконку колокольчика, чтобы включить уведомления
Сообщите об ошибке на странице
Ошибка в тексте: